[1]
A. M. Efremov, V. B. Betelin, и K.-H. Kwon, «ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ И КИНЕТИКА ТРАВЛЕНИЯ SiO2 В СМЕСИ C4F8 + Ar + O2», ХИХТ, т. 63, вып. 6, сс. 37-43, май 2020.