EFREMOV, A. M.; BETELIN, V. B.; KWON, K.-H. ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ И КИНЕТИКА ТРАВЛЕНИЯ SiO2 В СМЕСИ C4F8 + Ar + O2. ИЗВЕСТИЯ ВЫСШИХ УЧЕБНЫХ ЗАВЕДЕНИЙ. СЕРИЯ «ХИМИЯ И ХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ», v. 63, n. 6, p. 37-43, 13 май 2020.